BAO Mask Avenger 2.7.5 是一款由BAO Plugins出品的After Effects三维路径遮罩顶点切线控制插件，可以直接在AE中控制和编辑Mask路径和遮罩的顶点，而且还可以在3D模式下控制遮罩，而无需使用空图层和表达式。然后可以更快地计算遮罩，并简化表达式编写。

功能特点

• 预览保护。以前版本的最大问题是 Ram 预览件失效。面具复仇者2.0新的烘焙系统避免了这种情况。
• 3D面具。面具复仇者现在控制 3D 蒙版，不使用空图层和表达式。然后更快地计算掩码，并简化表达式写入。
• 背景烘焙。当面具需要修改时，面具复仇者会在当前时间立即变换它，并在背景中烘烤其余的工作区域。这意味着您可以在面具复仇者忙于烘焙时继续工作。这取代了“动态”和“烘焙”模式。
• 更好的形状层兼容性。与“动态”模式相关的错误随着新的烘焙系统而消失。
• 工作区域和图层的持续时间不再影响面具复仇者的计算速度。当然，烘焙 100，000 个关键帧所需的时间比 10 个要长，但新的烘焙系统允许您在烘焙时继续工作。
• 不再需要蒙版渲染器。面具复仇者现在使用AE自己的遮罩功能，运行速度更快。
• 蒙版预览。面具复仇者2.0有一个预览系统，可以在将更改应用于面具之前动态显示更改。这样可以避免在表达式、其他图层或相机修改遮罩时出现延迟。

安装说明

拷贝对应系统的插件文件到AE的插件目录，如：Win:…Adobe/After Effects CC 2019/Support Files/Plug-ins

注意：如果在输入序列号后仍带有红色X水印，则需要清除缓存的帧。在After Effects菜单中：编辑->清除->所有内存和磁盘缓存。