AEscripts BAO Mask Avenger 2.7.5是一款由BAO Plugins出品的After Effects三维路径遮罩顶点切线控制插件,可以直接在AE中控制和编辑Mask路径和遮罩的顶点,而且还可以在3D模式下控制遮罩,而无需使用空图层和表达式。然后可以更快地计算遮罩,并简化表达式编写。
功能特点
官网地址:https://aescripts.com/bao-mask-avenger/
- 预览保护。以前版本的最大问题是 Ram 预览件失效。面具复仇者2.0新的烘焙系统避免了这种情况。
- 3D面具。面具复仇者现在控制 3D 蒙版,不使用空图层和表达式。然后更快地计算掩码,并简化表达式写入。
- 背景烘焙。当面具需要修改时,面具复仇者会在当前时间立即变换它,并在背景中烘烤其余的工作区域。这意味着您可以在面具复仇者忙于烘焙时继续工作。这取代了“动态”和“烘焙”模式。
- 更好的形状层兼容性。与“动态”模式相关的错误随着新的烘焙系统而消失。
- 工作区域和图层的持续时间不再影响面具复仇者的计算速度。当然,烘焙 100,000 个关键帧所需的时间比 10 个要长,但新的烘焙系统允许您在烘焙时继续工作。
- 不再需要蒙版渲染器。面具复仇者现在使用AE自己的遮罩功能,运行速度更快。
- 蒙版预览。面具复仇者2.0有一个预览系统,可以在将更改应用于面具之前动态显示更改。这样可以避免在表达式、其他图层或相机修改遮罩时出现延迟。
新增功能
2.7.5 (当前版本) – 2022年4月20日
- 修复了 M1 兼容性问题 (Mac)
适用系统
- Windows
- MaciOS
- after effects CS6
- after effects CC
- after effects 2014
- after effects 2015
- after effects 2016
- after effects 2017
- after effects 2018
- after effects 2019
- after effects 2020
- after effects 2021
- after effects 2022
- after effects 2023
安装说明
拷贝对应系统的插件文件到AE的插件目录,如:Win:…Adobe/After Effects CC 2019/Support Files/Plug-ins
注意:如果在输入序列号后仍带有红色X水印,则需要清除缓存的帧。在After Effects菜单中:编辑->清除->所有内存和磁盘缓存。
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