OctaneStudio for C4D R15-R25 2020.2.5 英文原版

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21年10月9日
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大柱站长

OctaneRender®是世界上第一个且速度最快的无偏、光谱正确的 GPU 渲染发动机，提供市场上任何生产渲染器所无法比拟的质量和速度。

OTOY®自豪地通过突破性的机器学习优化、非核心几何支持、场景图中 10-100 倍的高速增长以及 RTX 射线跟踪 GPU 硬件加速技术，提升了最先进的图形技术。

OctaneStudio for C4D R15-R25 2020.2.5 英文原版 — Octanestudio For C4d R23 R15 2020.2 Win英文版

Octane Studio 2020.2.5新增功能

恩维迪亚 RTX 加速辛烷值 RTX 硬件加速为具有多 GPU 支持的 NVIDIA 射线跟踪 GPU 带来 2-5 倍的渲染速度提升。RTX 加速速度增益在更复杂的场景中增加，并可以使用RTX 辛烷值®进行基准测试。
分层材料新的分层材料系统允许您构建由基层组成的复杂材料，最多 8 层可插入基层顶部。新节点包括：分层材料、扩散层、光谱层、光泽层、金属层和层组节点。使用独特的分层材料，Octane 使您能够以物理方式重现复杂的材料，而不是手动混合材料。
光谱随机行走 SSS 和头发材料一个新的随机行走介质允许您创建超逼真的皮肤和其他吸收 /散射材料在辛烷值。使用随机步行 SSS 和 Octane 的新光谱头发材料，您可以轻松创建逼真数字字符。光谱头发材料为头发提供不同的着色模式，以及沿发丝进行不同散射行为的多个粗糙度参数。
韦克特龙™Vectron™软件模块利用矢量-多边形几何学提供无限的程序生成场景、卷和几何形状，绕过网格和卷。使用 Vectron，您可以在 GPU 上完全创建程序生成的场景，而无需使用 GPU VRAM 且内存占用为零。
斯佩克特龙™Spectron™软件模块利用程序卷灯，允许您创建程序驱动的音量照明 – 像点灯 – 与拦截器，谷仓门，凝胶和更多。
OSL 和程序顶点位移现在，您可以在渲染之前渲染程序和 OSL 顶点位移（高度或矢量位移）。这是一个强大的位移系统，不会受到与旧位移系统（现在称为纹理位移）相同的限制。辛烷值还允许您使用新的位移混合器节点混合/层矢量/高度位移图。
体积纹理的 OSL 阴影直到最近，您只能使用静态颜色进行体积吸收、散射和排放。现在，您可以使用任何纹理进行卷。